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Zeiss蔡司 场发射扫描电镜 SUPRA 55/55VP - 产品说明

Zeiss蔡司 场发射扫描电镜 SUPRA 55/55VP

产品名称: Zeiss蔡司 场发射扫描电镜 
型 号: SUPRA 55/55VP  
售 价: 面议 询价
订购热线: 400 098 6966
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Zeiss蔡司 场发射扫描电镜 SUPRA 55/55VP产品详细说明
 卡尔•蔡司Zeiss场发射扫描电镜 SUPRA 55/55VP
SUPRA 55是一款拥有第三代GEMINI 镜筒的高性能场发射电子显微镜,它有流行的摆动缓冲系统,并结合了5轴驱动载物台,通过不断变换电压可以获得很高的分辨率。 
对于使用者来说,SUPRA  55的系统功能强大,可以在相对不稳定的环境下完成检测,完全分析型的场发射扫描电镜探针电流可达到20nA ,适用范围如材料领域、半导体技术生命科学和纳米技术领域等。
 
用途:
    扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域,进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体/晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。
    ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代镜筒(GEMINI)设计,具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前上优异真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器,具有优异的灵敏度和高的接收效率,而且只接收来自样品表面的二次电子,因此具有业界高等的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上,试样的工作距离不受背散射探测器的影响,可以非常接近极靴,这样可以同时获得高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率,且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜,杂散磁场小,可对铁磁体样品进行高分辨率成像。
 
技术参数:
分辨率:  1.0nm @ 15 KV
                 1.7 nm @ 1 KV
                 3.5nm @0.2KV
                 4.0nm@0.1KV
                 2.0nm @30KV(VP mode)
放大倍数:12 - 900,000x
加速电压:0.1 - 30 KV
低压范围:2-133Pa  1Pa步进可调
探针电流:4 pA - 10 nA (4 pA - 20 nA 可选)
样品室:  330 mm (Ø) x 270 mm (h)
样品台:  5轴驱动
                 X = 130mm
                 Y = 130 mm
                 Z = 50mm
                倾斜角T = -3 to 70°
                 R = 360°连续旋转
系统控制:基于Windows XP 的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制
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